鉬片加工的應(yīng)用和發(fā)展方向：由于鉬是一種熔點為2625度的難熔金屬，在高溫下其具有很強(qiáng)的抗張強(qiáng)度、抗蠕變強(qiáng)度以及良好的耐熱性，熱膨脹系數(shù)低，導(dǎo)熱率和導(dǎo)電率均高，同時對液態(tài)金屬、鉀、鈣、鉍和銫等和其它熔鹽有良好的抗蝕性，因此，它以各種形式應(yīng)用于國民經(jīng)濟(jì)各個領(lǐng)域中，如宇航和核能，照明電器和電子器件，真空爐和保護(hù)氣氛電爐，金屬壓力加工、玻璃工業(yè)等。

  高科技的迅速發(fā)展，也為鉬片加工的新應(yīng)用和發(fā)展開辟了十分廣闊的前景。如超高純鉬在微電子技術(shù)中的應(yīng)用，用高純和超高純鉬同硅共濺制取的MoSi2在微電子器中用作集成線路的更為優(yōu)良的布線材料和在金屬化合物半導(dǎo)體中作高級柵門材料，由于微電子技術(shù)發(fā)展的需要及迅速發(fā)展，高純和超高純鉬發(fā)展十分迅速，如德國和俄羅斯已用化學(xué)和物理方法分別生產(chǎn)出純度為99.999%的鉬；鉬在核聚變反應(yīng)堆技術(shù)中的應(yīng)用；鉬片加工在超導(dǎo)材料中的應(yīng)用，如現(xiàn)已制出了PbMo6S8粉末截面積占20%，直徑為0.4mm的PMS導(dǎo)線，這是因為PbMo6S8具有高達(dá)60T的上臨界場（為各種超導(dǎo)材料之最），因此，不只引起了材料界的極大興趣，并且還正在進(jìn)行著廣泛的研究；鉬在增強(qiáng)技術(shù)方面的應(yīng)用，如利用顆粒增強(qiáng)劑，i、Zr、Hf的碳化物，稀土氧化物等已制成了比純鉬更優(yōu)越的鉬合金，如MHC、ZHM、M25WH等，這些新型合金的再結(jié)晶清晰度和熱強(qiáng)度都有大幅度的提高及增強(qiáng)。

  鉬片加工的應(yīng)用和發(fā)展方向在涂層方面的新應(yīng)用，如高溫電池和太陽能收集器。事實已證明，金屬鉬涂層對Li-AL/Fe- S系統(tǒng)和Na/S系統(tǒng)的高溫電池具有優(yōu)良的抗腐蝕性能。用鉬作涂層的太陽能收集囂具有高的可見光吸收率和低的對較長波的發(fā)射率，并且工作清晰度可達(dá)500C以上。這是一般金屬或金屬同金屬氧化物復(fù)合的光譜性能無法相比的。電解沉積法是高溫電池中鉬涂層的制備方法；米級鉬制品的應(yīng)用。納米級鉬制品包括二硫化鉬、納米級空心二硫化鉬、納米級鉬粉、納米級二硅化鉬－碳化硅和納米級鈦酸鋇－三氧化鉬等。納米級三氧化鉬具有的電致色功能十分優(yōu)異，應(yīng)用將很廣泛；納米級MO（S i、AL）2－SiC在高溫下，強(qiáng)度高，韌性很好，在高溫涂層方面前景看好。總之，隨著高新科技的快速發(fā)展，鉬的先進(jìn)技術(shù)和應(yīng)用更加深入、廣泛。人們可以看到這些新的突破均是一些大企業(yè)的科技人員研究出來的，應(yīng)引起鉬業(yè)人士重視。